发明名称 EUVマスク及びその製造方法
摘要 【課題】被加工材に形成するパターンの精度が高く、耐久性が高いEUVマスク及びその製造方法を提供する。【解決手段】実施形態に係るEUVマスクは、基板と、前記基板上に設けられた第1のライン状部分と、前記基板上に設けられた第2のライン状部分と、前記第1のライン状部分の側面上に配置された第1の側壁と、前記第2のライン状部分の側面上に配置された第2の側壁と、を備える。前記第1及び第2のライン状部分においては、第1材料を含む第1層及び第2材料を含む第2層が積層されている。前記第1及び第2の側壁は、前記第1材料の酸化物を含み、前記第1層の側面及び前記第2層の側面を覆う。【選択図】図2
申请公布号 JP2017032856(A) 申请公布日期 2017.02.09
申请号 JP20150154157 申请日期 2015.08.04
申请人 株式会社東芝 发明人 高居 康介
分类号 G03F1/24;G03F1/22;G03F7/20 主分类号 G03F1/24
代理机构 代理人
主权项
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