紫外線照射装置及び紫外線照射方法

摘要

【課題】紫外線を照射してキュアする紫外線照射装置において、基板収容部内のパーティクルの発生を抑制し、基板を清浄に保つ装置及び方法を提供する。【解決手段】基板１０を密閉空間で収容可能な収容部２と、前記収容部の外部に設けられ、前記基板に紫外線を照射可能な照射部４０と、前記収容部の外部に設けられ、前記収容部の外部から前記収容部の内部に収容されている前記基板に前記紫外線が照射されるように前記照射部を前記収容部の外部で移動させる移動部５と、を含む。【選択図】図１