发明名称 インプリント用テンプレートおよびその製造方法、および半導体装置の製造方法
摘要 【課題】インプリント用テンプレートの側面にレジストが付着しないようにする。【解決手段】凹凸パターンが主面に形成されたパターン形成部と、パターン形成部の側面上に形成された、パターン形成部の材料よりもレジスト材料に対する接触角の高い保護層と、を有するインプリント用テンプレートを備える。【選択図】図1
申请公布号 JP2017034164(A) 申请公布日期 2017.02.09
申请号 JP20150154403 申请日期 2015.08.04
申请人 株式会社東芝 发明人 佐藤 伸良
分类号 H01L21/027;B29C59/02 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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