| 摘要 |
【課題】極めて高い解像性を有し、ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）の小さい、矩形性に優れたパターンの形成が可能なレジスト膜を形成できるレジスト組成物のベース樹脂として好適な高分子化合物の提供。【解決手段】例えば側鎖にトリフルオロメチル基及びエステルのアルコール由来部にスルホニウムカチオンとを有する（メタ）アクリル酸エステル系の繰り返し単位と、エステルのアルコール由来部が縮合環を含む（メタ）アクリル酸系繰り返し単位及び置換基を有する縮合環からなる芳香族オレフィンからなる繰り返し単位から選ばれる１種以上の繰り返し単位とを含有する高分子化合物。【選択図】なし |
