apparatus for processing plasma

摘要

본 발명은 플라즈마 처리 장치를 개시한다. 그의 장치는 챔버와, 상기 챔버의 내벽에 코팅되는 플라즈마 보호막을 포함한다. 챔버의 내벽은 상기 내벽은 0.5 마이크로미터 이하의 중심선 평균 거칠기를 가질 수 있다.