发明名称 |
一种磁控溅射平面靶刻蚀深度测量装置 |
摘要 |
一种磁控溅射平面靶刻蚀深度测量装置,包括置于靶材上且相互平行的两根支撑轨道,所述支撑轨道上各设有一根垂直支撑杆,两根垂直支撑杆的上端经支撑横杆连接,其中一根垂直支撑杆上设有Ⅰ号电机,所述支撑横杆中间部位设有Ⅱ号电机,Ⅱ号电机上端经通讯电缆连接外接电脑,Ⅱ号电机下端经中间支杆连接有光敏感应标尺,所述光敏感应标尺内侧设有脉冲激光光源,脉冲激光光源外侧设有可伸缩测量探头。本实用新型可以准确的测出靶材表面已刻蚀的深度,从而计算出剩余靶材的厚度,进而得出剩余靶材的使用寿命,并进一步提高靶材的利用率,降低生产成本,提高产品在市场上的竞争优势。 |
申请公布号 |
CN205940475U |
申请公布日期 |
2017.02.08 |
申请号 |
CN201620754921.1 |
申请日期 |
2016.07.19 |
申请人 |
江西共青城汉能薄膜太阳能有限公司 |
发明人 |
魏小涛;王宏杰;周志虎 |
分类号 |
G01B11/22(2006.01)I |
主分类号 |
G01B11/22(2006.01)I |
代理机构 |
南昌新天下专利商标代理有限公司 36115 |
代理人 |
谢德珍 |
主权项 |
一种磁控溅射平面靶刻蚀深度测量装置,包括置于靶材(12)上且相互平行的两根支撑轨道(1),其特征在于,所述支撑轨道(1)上各设有一根垂直支撑杆(2),两根垂直支撑杆(2)的上端经支撑横杆(4)连接,其中一根垂直支撑杆(2)上设有Ⅰ号电机(11),所述支撑横杆(4)中间部位设有Ⅱ号电机(3),Ⅱ号电机(3)上端经通讯电缆(5)连接外接电脑(6),Ⅱ号电机(3)下端经中间支杆(7)连接有光敏感应标尺(8),所述光敏感应标尺(8)内侧设有脉冲激光光源(9),脉冲激光光源(9)外侧设有可伸缩测量探头(10)。 |
地址 |
332020 江西省九江市共青城全国青年创业基地服务局 |