发明名称 SUBSTRATE LIQUID PROCESSING APPARATUS
摘要 본 발명은 기판을 처리액으로 처리하는 기판 액처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 기판 액처리 장치는, 기판을 보지하고, 또한 보지한 기판을 회전시키기 위한 기판 회전 기구와, 기판으로 복수 종류의 처리액을 선택적으로 공급하는 처리액 공급 기구와, 기판으로 공급한 후의 처리액을 회수하기 위한 회수 컵과, 처리액을 회수하기 위하여 회수 컵에 형성한 복수의 액 회수부와, 액 회수부로부터 회수한 처리액을 배출하기 위하여 회수 컵의 저부에 형성한 배액구와, 회수 컵의 배액구보다 상방측에 형성한 배기구와, 배기구의 상방을 소정의 간격을 두고 덮기 위하여 회수 컵에 고정한 고정 커버와, 기판으로 공급한 후의 처리액을 액 회수부로 안내하기 위하여 고정 커버의 상방에서 승강 가능하게 설치된 승강 컵과, 처리액의 종류에 따라 승강 컵을 고정 커버에 대하여 승강시키기 위한 컵 승강 기구를 가지고, 승강 컵에는 구획벽에 승강 가능하게 삽입 관통된 승강 로드가 접속되어 있고, 승강 로드는 컵 승강 기구와 접속되어 있으며, 승강 컵이 승강할 때, 배기구와 고정 커버와의 사이의 상기 소정의 간격은 일정하게 유지되어, 배기 압력의 변동을 방지한다.
申请公布号 KR20170015415(A) 申请公布日期 2017.02.08
申请号 KR20170011934 申请日期 2017.01.25
申请人 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 发明人 히가시지마 지로;이토 노리히로;오가타 노부히로;나가미네 슈이치
分类号 H01L21/02;B05B15/04;B05C11/08;B08B3/04;B08B3/08;B08B15/02;H01L21/67 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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