| 摘要 |
기판 프로세싱 시스템을 위한 가스 전달 시스템은 제 1 매니폴드 및 제 2 매니폴드를 포함한다. 가스 전달 서브시스템은 가스 소스들로부터 가스들을 선택적으로 전달한다. 가스 전달 서브 시스템은 제 1 가스 혼합물을 제 1 매니폴드로 전달하고 제 2 가스 혼합물을 제 2 매니폴드로 전달한다. 가스 스플리터는 제 2 매니폴드의 유출부와 유체로 연통하는 유입부, 제 1 매니폴드의 유출부와 유체로 연통하는 제 1 유출부, 및 제 2 유출부를 포함한다. 가스 스플리터는 제 2 가스 혼합물을 제 1 유출부로 출력되는 제 1 플로우 레이트의 제 1 부분 및 제 2 유출부로 출력되는 제 2 플로우 레이트의 제 2 부분으로 스플릿한다 (split). 기판 프로세싱 시스템의 제 1 존 및 제 2 존은 가스 스플리터의 제 1 유출부 및 제 2 유출부와 각각 유체로 연통한다. |
