发明名称 POLISHING APPARATUS AND POLISHING METHOD
摘要 정확한 연마 진척을 감시할 수 있는 연마 장치를 제공한다. 연마 장치는 연마 패드(1)를 지지하는 연마 테이블(2)과, 연마 테이블(2)을 회전시키는 테이블 모터(6)와, 기판을 연마 패드(1)에 압박하여 상기 기판을 연마하는 톱 링(3)과, 기판의 연마 중에 연마 패드(1) 상을 요동하면서 연마 패드(1)를 드레싱하는 드레서(26)와, 드레서(26)의 요동 주기에 상당하는 주파수를 갖는 진동 성분을, 테이블 모터(6)의 출력 전류 신호로부터 제거하는 필터 장치(35)와, 진동 성분이 제거된 출력 전류 신호에 기초하여 기판의 연마 진척을 감시하는 연마 감시 장치(40)를 구비한다.
申请公布号 KR20170015406(A) 申请公布日期 2017.02.08
申请号 KR20170010910 申请日期 2017.01.24
申请人 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 发明人 다카하시 다로;스즈키 유타
分类号 H01L21/304;H01L21/306;H01L21/321;H01L21/66;H01L21/67 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
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