| 摘要 |
본 발명은 기판처리장치에 관한 것으로서, 상세하게는 기판에 대하여 증착, 식각 등 기판처리를 수행하는 기판처리장치에 관한 것이다. 본 발명은 기판을 지지하는 기판지지대가 설치되며 상측에 개구가 형성된 챔버본체와; 상기 챔버본체의 개구에 결합되어 밀폐된 처리공간을 형성하며 상기 처리공간 내로 가스를 분사하는 샤워헤드조립체를 포함하는 기판처리장치로서, 상기 샤워헤드조립체는 상기 챔버본체의 개구에 결합되며 하나 이상의 가스주입구가 형성된 탑플레이트와; 상기 탑플레이트의 저면에 간격을 두고 결합되어 확산공간을 형성하며 다수개의 제1분사구들이 상하로 관통 형성된 제1플레이트와; 상기 제1플레이트와 간격을 두고 설치되어 분사공간을 형성하며 다수개의 제2분사구들이 상하로 관통 형성된 제2플레이트와; 상기 탑플레이트 및 상기 제1플레이트 사이에 개재되는 제1스페이서와, 상기 제2플레이트를 지지하도록 상기 탑플레이트, 상기 제1스페이서 및 상기 제1플레이트를 관통하여 삽입되어 상기 제2플레이트와 나사 결합되는 결합볼트를 포함하는 하나 이상의 샤워헤드조립부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치를 개시한다. |
