发明名称 PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
摘要 (과제) 열 플로우성 및 해상성이 우수하고, 현상시의 잔막률이 높고, 또한 투과율의 장기 안정성이 우수한 막을 형성 가능한 감광성 조성물과, 당해 감광성 조성물을 사용하는 패턴 형성 방법과, 당해 감광성 조성물을 사용하여 형성되는 영구막과, 당해 영구막을 포함하는 CMOS 이미지 센서용 컬러 필터를 제공하는 것. (해결 수단) 알칼리 가용성 폴리머 및 퀴논디아지드기 함유 화합물을 포함하는 감광성 조성물에 있어서, 알칼리 가용성 폴리머로서, 하기 식 (a-1) 로 나타내는 구성 단위 (a1) 과, 가교성기를 갖는 구성 단위 (a2) 와, 하이드록시알킬기를 갖는 구성 단위 (a3) 을 포함하고, 또한 질량 평균 분자량이 15000 미만인 알칼리 가용성 폴리머를 사용한다.
申请公布号 KR20170015147(A) 申请公布日期 2017.02.08
申请号 KR20160087519 申请日期 2016.07.11
申请人 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 发明人 이노우에 도모유키;이소베 신고;마츠모토 나오즈미
分类号 G03F7/004;C08K5/22;C08L33/10;G02B5/22;G03F7/00;G03F7/022;G03F7/16;G03F7/26;H04N5/335 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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