| 发明名称 | 一种COA基板及其制作方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种COA基板及其制作方法，所述方法包括：提供一衬底基板；在所述衬底基板上形成第一金属层，对所述第一金属层进行图形化处理形成栅极；在所述栅极及未被所述栅极覆盖的衬底基板上形成栅绝缘层；在所述栅绝缘层上形成色阻层；在所述色阻层上形成有源层；在所述有源层上以及未被所述有源层覆盖的色阻层上形成第二金属层，对所述第二金属层进行图形化处理形成漏极和源极；在所述第二金属层上形成钝化层；在所述钝化层上形成连接所述第二金属层的过孔；以及在所述钝化层上形成透明导电层。本发明的COA基板及其制作方法，通过在第二金属层之前制作色阻层，较现有技术节省了一层钝化层，从而降低生产成本。 | ||
| 申请公布号 | CN104319277B | 申请公布日期 | 2017.02.08 |
| 申请号 | CN201410542924.4 | 申请日期 | 2014.10.15 |
| 申请人 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 发明人 | 熊源 |
| 分类号 | H01L27/12(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人 | 黄威 |
| 主权项 | 一种COA基板的制作方法，其特征在于，包括：提供一衬底基板；在所述衬底基板上形成第一金属层，对所述第一金属层进行图形化处理形成栅极；在所述栅极及未被所述栅极覆盖的衬底基板上形成栅绝缘层；在所述栅绝缘层上形成色阻层；在所述色阻层上形成有源层；在所述有源层上以及未被所述有源层覆盖的色阻层上形成第二金属层，对所述第二金属层进行图形化处理形成漏极和源极；使用掩模板对所述第二金属层进行图形化处理，以在所述第二金属层上形成第一公共电极；在所述第二金属层上形成钝化层；在所述钝化层上形成连接所述第二金属层的过孔；以及在所述钝化层上形成透明导电层；所述透明导电层包括像素电极，所述像素电极与所述第一公共电极之间形成存储电容。 | ||
| 地址 | 518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9—2号 | ||