| 摘要 |
플라즈마 위치에서 플라즈마를 발생시키는 시스템을 포함할 수 있는 디바이스가 개시되고, 이 플라즈마는 플라즈마를 빠져나가는 EUV 방사선, 및 이온을 생성한다. 본 디바이스는 또한 상기 위치로부터 일정거리만큼 떨어져 있는 광학부재(예컨대, 다층 미러), 및 플라즈마와 광학부재 사이에 배치된 유동 가스를 포함할 수 있고, 이 가스는 이온이 광학부재에 도달하기 전에 이온 에너지를 미리 선택된 값 아래로 감소시키도록 상기 거리 d에 걸처 오퍼레이팅하기에 충분한 가스압력을 형성하고, 하나의 실시예에서, 가스는 수소를 포함하고, 특정 실시예에서, 가스는 부피비 50% 초과의 수소를 포함할 수 있다. |
