发明名称 POLISHING APPARATUS HAVING TEMPERATURE REGULATOR FOR POLISHING AND CLEANING METHOD OF PAD CONTACT ELEMENT
摘要 기판 연마 장치는 연마 패드를 지지하는 연마 테이블과, 기판을 연마 패드에 대해 가압하도록 구성된 톱링과, 연마 패드의 표면 온도를 조절하도록 구성된 패드 온도 조정 기구를 포함한다. 패드 온도 조정 기구는 패드 접촉 부재 및 온도 제어된 액체를 패드 접촉 부재에 공급하도록 구성된 액체 공급 시스템을 포함한다. 패드 접촉 부재는 내부 공간 및 해당 내부 공간을 직렬 접속된 제1 액체 유로와 제2 액체 유로로 분할하는 구획을 구비한다. 연마 테이블의 반경 방향에 실질적으로 수직한 하나 이상의 배플이 제1 유로와 제2 유로 각각에 마련된다.
申请公布号 KR101704187(B1) 申请公布日期 2017.02.07
申请号 KR20150054196 申请日期 2015.04.17
申请人 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 发明人 마루야마 도오루;소네따 다까즈;모또시마 야스유끼
分类号 H01L21/304;H01L21/67 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
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