| 发明名称 |
WORKPIECE PROCESSING CHAMBER HAVING A ROTARY MICROWAVE PLASMA SOURCE |
| 摘要 |
마이크로파 플라즈마 소스를 갖는 프로세싱 반응기에서, 마이크로파 라디에이터는, 연속적인 회전을 위해 회전식 마이크로파 커플링 상에 장착된다. |
| 申请公布号 |
KR20170013329(A) |
申请公布日期 |
2017.02.06 |
| 申请号 |
KR20167036596 |
申请日期 |
2015.05.13 |
| 申请人 |
어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 |
发明人 |
스토웰, 마이클, 더블유.;리앙, 치웨이 |
| 分类号 |
H05B6/80;H01L21/02;H01L21/3065;H05B6/64;H05B6/70;H05B6/72 |
主分类号 |
H05B6/80 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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