发明名称 MULTI-LAYER OVERLAY METROLOGY TARGET AND COMPLIMENTARY OVERLAY METROLOGY MEASUREMENT SYSTEMS
摘要 촬상 기반 계측에서 사용하기 위한 다층 오버레이 타겟이 개시된다. 오버레이 타겟은 3개 이상의 타겟 구조물을 포함한 복수의 타겟 구조물을 포함하고, 각 타겟 구조물은 2개 이상의 패턴 요소들의 집합을 포함하며, 타겟 구조물은 타겟 구조물의 정렬시에 공통 대칭 중심을 공유하도록 구성되고, 각 타겟 구조물은 공통 대칭 중심에 대한 N도(N도는 180도 이상임) 회전에 대하여 불변체이며, 2개 이상의 패턴 요소는 각각 개별적인 대칭 중심을 갖고, 각 타겟 구조물의 2개 이상의 패턴 요소들은 각각 개별적인 대칭 중심에 대한 M도(M도는 180도 이상임) 회전에 대하여 불변체이다.
申请公布号 KR20170013399(A) 申请公布日期 2017.02.06
申请号 KR20177001918 申请日期 2011.07.28
申请人 케이엘에이-텐코 코포레이션 发明人 칸델 다니엘;레빈스키 블라디미르;코헨 가이
分类号 H01L21/027;G03F7/20 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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