Conductive Paste Composition for Photo-Etching and Method of Preparing Conductive Pattern Using the Same

摘要

본 발명은 불포화 이중결합을 가지고 산가가 45~180mgKOH/g인 포토 에칭 성분, 광중합 개시제 지방산, 디카복실산 또는 그 산무수물로 코팅된 도전성 물질 및 4관능기 이하의 모노머 또는 올리고머를 포함하는 포토 에칭형 도전 페이스트 조성물을 이용하여 도전 패턴을 제조할 때, 저온 경화 조건으로도 비저항율이 낮은 도전 패턴을 형성할 수 있으며, 뛰어난 포토 에칭 능력에 의해 미세 패터닝이 가능하다는 효과가 있다.