发明名称 SUBSTRATE ACCOMMODATING METHOD AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS
摘要 기판의 수명을 연장하는 것과 스루풋을 향상시키는 것을 목적으로 한다. 기판에 처리를 실시하는 처리실과, 기판을 수납하는 제 1 및 제 2 기판 수납 용기와, 상기 처리실과 상기 제 1 및 제 2 기판 수납 용기를 연결하고, 기판을 반송하는 반송실을 구비한 기판 처리 장치에 있어서의 기판 수납 방법으로서, 상기 제 1 기판 수납 용기에 수납된 미처리 기판을 상기 제 2 기판 수납 용기로 반송하는 제 1 단계와, 상기 제 2 기판 수납 용기에 수납된 미처리 기판을 상기 처리실로 반송하고, 상기 미처리 기판을 처리하는 제 2 단계와, 상기 미처리 기판을 처리한 후의 처리 완료된 기판을 상기 처리실로부터 상기 제 1 기판 수납 용기로 반송하는 제 3 단계와, 상기 제 1 기판 수납 용기 내로 불활성 가스를 도입하는 제 4 단계를 가지는 기판 수납 방법이 제공된다.
申请公布号 KR20170013173(A) 申请公布日期 2017.02.06
申请号 KR20160094025 申请日期 2016.07.25
申请人 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 发明人 이타쿠라 아키라
分类号 H01L21/677 主分类号 H01L21/677
代理机构 代理人
主权项
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