| 摘要 |
본 발명은, 미세하면서 고정밀도의 전사용 패턴을 구비하는 포토마스크를 제조하는 것을 과제로 한다. 본 발명의 포토마스크의 제조 방법은, 투명 기판 위에, 하층막, 상층막, 및 포토레지스트막이 형성된 포토마스크 블랭크를 준비하는 공정과, 포토레지스트막에 묘화 및 예비 현상을 실시하여, 제1 레지스트 패턴을 형성하는 공정과, 제1 레지스트 패턴을 마스크로 하여 상층막을 예비 에칭하는 예비 에칭 공정과, 제1 레지스트 패턴, 또는 상기 예비 에칭에 의해 형성된 상층막 패턴을 마스크로 하여, 하층막을 에칭하는, 하층막 패터닝 공정과, 제1 레지스트 패턴에 대하여 추가 현상을 실시함으로써, 제2 레지스트 패턴을 형성하는 추가 현상 공정과, 제2 레지스트 패턴을 마스크로 하여, 상층막에 추가의 에칭을 실시하는, 상층막 패터닝 공정과, 제2 레지스트 패턴을 박리하는 박리 공정을 갖는다. |
