PATTERN FORMING METHOD ELECTRON BEAM-SENSITIVE OR EXTREME ULTRAVIOLET RAY-SENSITIVE RESIN COMPOSITION RESIST FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE USING THE SAME

摘要

본 발명은 (a) 일반식(1-0)으로 표시되는 반복 단위와 일반식(1-2)으로 표시되는 반복 단위를 갖는 수지(A)를 함유하는 감전자선성 또는 감극자외선성 수지 조성물을 이용하여 막을 형성하는 공정, (b) 전자선 또는 극자외선을 이용하여 노광하는 공정 및 (c) 유기용제이 포함된 현상액으로 현상하여 네거티브 패턴을 형성하는 공정을 포함하며, 일반식(1-0)으로 표시되는 반복 단위의 함량이 수지(A) 중의 전 반복 단위에 대해 45몰% 이상인 패턴 형성 방법을 제공한다.