| 摘要 |
본 발명은 플러스 이온으로 하전된 입자 빔을 검출기 측을 전환시키는 디플렉터를 최전방에 위치한 플레이트만을 메쉬 구조로 형성하고, 후단의 2개 플레이트는 메쉬 구조를 갖지 않는 금속 플레이트로 형성함으로써 균일한 전기장을 생성할 수 있도록 하는 입자 빔 질량 분석기의 디플렉터에 관한 것이다. 이를 위한 본 발명의 입자 빔 질량 분석기의 디플렉터는 입자 빔 질량 분석기의 내부에서 입자 하전부의 후단에 위치되어 하전 입자의 진행 경로를 변경시키도록 전기장을 생성하는 디플렉터에 있어서, 다공형의 메쉬 형태를 갖는 제 1 플레이트와, 제 1 플레이트와 일정 거리 이격 설치되며 금속막으로 이루어지는 제 2 플레이트, 및 제 1 플레이트와 대칭되는 위치에 제 2 금속 플레이트와 일정 거리 이격 설치되며 금속막으로 이루어지는 제 3 플레이트를 포함한다. |
