| 摘要 |
본 발명은 입자 빔 질량 분석기의 입자 하전부에서 입자의 플러스 이온으로 하전시에 발생하는 2차 전자를 전기장 인가 방식으로 제거하여 플러스 이온으로 하전된 입자 빔과 함께 2차 전자가 전류 검출부로 유입되지 않도록 하는 입자 빔 질량 분석기를 제공함에 있다. 이를 위한 본 발명의 입자 빔 질량 분석기는, 진공 챔버와, 미세 입자를 포함한 기체를 집속, 가속하여 입자 빔을 형성하는 입자 집가속부와, 가속된 입자 빔을 플러스 이온으로 하전시키는 입자 하전부와, 전기장을 형성하여 상기 하전된 입자 빔의 진행 경로를 변경시키는 입자 빔 방향 전환부와, 입자 하전부와 입자 빔 방향 전환부 사이에 배치되고 상기 입자 하전부에서 입자 빔의 플러스 이온 하전시 발생되는 2차 전자를 입자 빔 진행 방향에서 제거하도록 전자기력을 발생하는 2차 전자 제어부를 포함한다. |
