发明名称 グラファイトプレート及びその製造方法
摘要 【課題】熱伝導ペーストを使用せず、接触抵抗の小さいグラファイトプレートとその製造方法を提供こと。【解決手段】グラファイトプレートの表面粗さ(Ra)が10μm以上、40μm未満であり、上記グラファイトプレートの表面内の任意の80mmの距離の間で、距離80mmに対する表面凹凸の変化率が、0.01%以上、0.135%以下であるグラファイトプレートを用いる。また、高分子フィルムを不活性ガス中で熱処理するグラファイトプレートの製造方法であり、上記高分子フィルムに行う熱処理は、上記不活性ガスの雰囲気中で、温度が2400℃以上3200℃以下であり、温度が2000℃以上で10kg/cm2以上、100kg/cm2以下の加圧をするグラファイトプレートの製造方法を用いる。【選択図】 図3
申请公布号 JP2017024972(A) 申请公布日期 2017.02.02
申请号 JP20160081746 申请日期 2016.04.15
申请人 パナソニックIPマネジメント株式会社 发明人 西木 直巳;西川 和宏;北浦 秀敏;田中 篤志;中谷 公明
分类号 C01B32/205 主分类号 C01B32/205
代理机构 代理人
主权项
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