| 摘要 |
【課題】基板を投入した直後における処理槽内の薬液成分濃度の低下を抑制する。【解決手段】基板液処理装置の制御部（５）は、濃度検出部（４４１）により検出された薬液成分の濃度に基づいて、処理槽（２１）内の処理液中に含まれる薬液成分の濃度が予め定められた許容下限値未満とならないように、薬液成分供給部（４２，４３）によって処理液に薬液成分を補充するフィードバック制御としての第１制御を実行する。制御部は、第１制御とは別に、処理槽内の処理液中に基板が投入される前もしくは投入された直後に、または基板の投入前から投入後にわたって、当該基板の投入に起因して生じる薬液成分濃度の低下を打ち消すために必要な予め定められた量の薬液成分を、薬液成分供給部により処理液に補充する第２制御を実行する。【選択図】図２ |
