发明名称 撮像装置及びその製造方法
摘要 【課題】光電変換層に欠陥が生じ難く、しかも、画素間混色が発生し難い撮像装置を提供する。【解決手段】撮像装置にあっては、複数の受光素子10が2次元マトリクス状に配列されており、各受光素子10は、第1電極31、光電変換層20及び第2電極32から成り、光電変換層20は、第1電極側から、第1導電型を有する第1化合物半導体層21、及び、第1導電型とは逆の導電型である第2導電型を有する第2化合物半導体層22が積層された積層構造を有しており、受光素子10と受光素子10との間の領域11における第2化合物半導体層は除去されており、第1電極31及び第1化合物半導体層21は、受光素子間で共通であり、第1電極近傍における第1化合物半導体層21Aの不純物濃度は、第2化合物半導体層近傍における第1化合物半導体層21Bの不純物濃度よりも低い。【選択図】 図1
申请公布号 JP2017028078(A) 申请公布日期 2017.02.02
申请号 JP20150144594 申请日期 2015.07.22
申请人 ソニー株式会社 发明人 内田 史朗;本庄 亮子;渡邊 知雅;阿部 秀司
分类号 H01L27/146;H01L27/14;H01L31/0264 主分类号 H01L27/146
代理机构 代理人
主权项
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