| 摘要 |
入射Ｘ線ビームを、結晶の回折により被写体が設置された第一の光路と、遮蔽板が設置された第二の光路に分割し、第一の光路を経て得られたＸ線と、第二の光路を経て得られたＸ線を結晶の回折により再び結合・干渉させて、被写体の像を得るＸ線撮像方法において、遮蔽板のない状態で被写体の位相分布像を測定する第一の工程と、遮蔽板により第二の光路を遮蔽し，かつ第一の光路が結晶の回折条件からはずれた状態で被写体の吸収像を測定する第二の工程と、得られた前記位相分布像と前記吸収像に基づいて、上記被写体の像を得る第三の工程を行う。 |
