发明名称 Method of manufacturing antenna
摘要 본 발명은 안테나 제조 방법으로서, 니켈을 포함하는 파티클(Particle)을 블라스팅(Blasting) 방식으로 분사하여 베이스 부재의 표면에 3차원 구조의 불규칙적인 미세홀로 이루어지는 방사체 형상을 형성하는 표면 처리 공정을 수행하면서 동시에 상기 미세홀에 침투된 상기 니켈을 융해 및 경화시켜 상기 방사체 형상을 따라 도금 시드층을 형성하는 전처리 공정을 수행함으로써, 베이스 부재의 표면 처리 공정과 도금 시드층 형성 등의 전처리 공정을 하나의 공정으로 통합한 안테나 제조 방법을 제시한다.
申请公布号 KR20170011775(A) 申请公布日期 2017.02.02
申请号 KR20150105008 申请日期 2015.07.24
申请人 엘에스엠트론 주식회사 发明人 김영호;임용성;박경민;정호영;이승훈;김태형
分类号 H01Q1/24;C23C18/04;H01Q1/38;H01Q9/42 主分类号 H01Q1/24
代理机构 代理人
主权项
地址