レジストパターン形成方法

摘要

本発明のレジストパターン形成方法は、基板１１にレジスト層１２を形成するレジスト層形成ステップＳ１０１と、活性化エネルギービームの照射によって前記レジスト層を活性化する活性化ステップＳ１０３と、前記レジスト層の活性の減衰を抑制する減衰抑制ステップＳ１０５と、潜像形成エネルギービームの照射によって、前記活性化されたレジスト層にパターン潜像を形成するパターン潜像形成ステップＳ１０７と、前記レジスト層を現像する現像ステップＳ１１０とを含有する。