发明名称 |
Mo−W酸化物スパッタリングターゲット、及び、Mo−W酸化物スパッタリングターゲットの製造方法 |
摘要 |
【課題】組成の均質性に優れ抵抗率のばらつきが少ないMo−W酸化物膜を成膜可能なMo−W酸化物スパッタリングターゲット、及び、Mo−W酸化物スパッタリングターゲットの製造方法の提供。【解決手段】Wを32原子%以上40原子%以下、Moを8原子%以上10原子%以下含有し、残部がO及び不可避不純物からなる組成を有し、X線回折において、WO2の回折ピーク、Wの回折ピーク及びMoの回折ピークを有するとともに、W18O49の回折ピーク及びWO3の回折ピークを有さないMo−W酸化物スパッタリングターゲット。【選択図】図1 |
申请公布号 |
JP2017025348(A) |
申请公布日期 |
2017.02.02 |
申请号 |
JP20150141562 |
申请日期 |
2015.07.15 |
申请人 |
三菱マテリアル株式会社 |
发明人 |
大友 健志;陸田 雄也 |
分类号 |
C23C14/34;B22F3/14;B22F3/15;C22C1/05;C22C29/12 |
主分类号 |
C23C14/34 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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