发明名称 Mo−W酸化物スパッタリングターゲット、及び、Mo−W酸化物スパッタリングターゲットの製造方法
摘要 【課題】組成の均質性に優れ抵抗率のばらつきが少ないMo−W酸化物膜を成膜可能なMo−W酸化物スパッタリングターゲット、及び、Mo−W酸化物スパッタリングターゲットの製造方法の提供。【解決手段】Wを32原子%以上40原子%以下、Moを8原子%以上10原子%以下含有し、残部がO及び不可避不純物からなる組成を有し、X線回折において、WO2の回折ピーク、Wの回折ピーク及びMoの回折ピークを有するとともに、W18O49の回折ピーク及びWO3の回折ピークを有さないMo−W酸化物スパッタリングターゲット。【選択図】図1
申请公布号 JP2017025348(A) 申请公布日期 2017.02.02
申请号 JP20150141562 申请日期 2015.07.15
申请人 三菱マテリアル株式会社 发明人 大友 健志;陸田 雄也
分类号 C23C14/34;B22F3/14;B22F3/15;C22C1/05;C22C29/12 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人
主权项
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