バリア層形成用組成物、バリア層付き半導体基板、太陽電池用基板の製造方法及び太陽電池素子の製造方法

摘要

一般式１：（Ｒ１）４−ｎＳｉ（ＯＲ２）ｎで表される少なくとも一種のアルコキシシラン、ポリシラザン、及び前記アルコキシシランを加水分解し縮合重合させたシロキサン樹脂からなる群より選択される少なくとも一種のケイ素含有化合物と、有機バインダと、分散媒とを含有し、２５℃における粘度が１Ｐａ・ｓ〜１００Ｐａ・ｓであるバリア層形成用組成物。式中、Ｒ１及びＲ２は、各々独立に、炭素数１〜６の脂肪族炭化水素基又は芳香族炭化水素基を表し、ｎは１〜４のいずれかの整数を表す。Ｒ１又はＲ２が２以上含まれる場合、各Ｒ１又は各Ｒ２は同一であっても異なってもよい。