| 摘要 |
【課題】高い歩留りで、低コストで製造することができるものであって、素子特性を向上させた光素子を提供する。【解決手段】半導体基板の上に形成された活性層と、前記活性層の上に形成された回折格子と、前記回折格子の上に形成された半導体埋込層と、前記半導体埋込層の上に形成されたクラッド層と、を有し、前記クラッド層が形成されている領域における前記活性層において、光が伝播する光導波路が形成されるものであって、前記クラッド層の側面において、前記光導波路の端部近傍には第１の埋込材料層が形成されており、前記光導波路の部近傍には第２の埋込材料層が形成されており、前記第１の埋込材料層の屈折率と前記第２の埋込材料層の屈折率とは異なる光素子により上記課題を解決する。【選択図】 図２ |
