发明名称 半導体装置及びその製造方法
摘要 【課題】オン電圧の増大を抑制しつつターンオフ損失を低減できる半導体装置を提供する。【解決手段】第1導電型のドリフト領域1と、ドリフト領域1の上面側に配置された第2導電型のベース領域2a〜2cと、ベース領域2a〜2cの上部に配置され、ドリフト領域1よりも高不純物密度の第1導電型の第1主電極領域3a〜3cと、第1主電極領域3a〜3c及びベース領域2a〜2cを貫通するトレンチ内に設けられたゲート絶縁膜4a,4bと、トレンチ内にゲート絶縁膜4a,4bを介して埋め込まれたゲート電極5a,5bと、トレンチの底部を覆うように配置された第2導電型のゲート被覆半導体層12と、ベース領域2a〜2cとゲート被覆半導体層12とに挟まれた第1導電型の中間半導体層13a〜13cと、ドリフト領域1の下面側に配置された第2導電型の第2主電極領域9とを備える。【選択図】図1
申请公布号 JP2017028250(A) 申请公布日期 2017.02.02
申请号 JP20160096387 申请日期 2016.05.12
申请人 富士電機株式会社 发明人 北村 睦美
分类号 H01L29/739;H01L21/76;H01L29/06;H01L29/78 主分类号 H01L29/739
代理机构 代理人
主权项
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