| 摘要 |
반도체 프로세싱 툴 내의 사용을 위한 혼합 허브가 제공된다. 허브는 축을 중심으로 배치된 복수의 포트들, 혼합 챔버, 및 복수의 플로우 경로들을 포함할 수도 있다. 플로우 경로들 각각은 혼합 챔버에 포트들 중 대응하는 포트를 유체적으로 연결할 수도 있고 그리고 플로우 경로 각각은 제 1 통로, 제 2 통로, 및 밸브 인터페이스를 포함할 수도 있다. 밸브 인터페이스 각각은, 밸브가 밸브 인터페이스 내에 설치될 때, 밸브가 제 1 통로와 제 2 통로 사이의 유체 플로우를 조절할 수 있도록 밸브와 인터페이싱하도록 구성될 수도 있다. 밸브 인터페이스 각각은, 축에 대해 수직이고 대응하는 포트를 통과하는 제 1 기준 플레인과 축에 대해 수직이고 혼합 챔버를 통과하는 제 2 기준 플레인 사이에 위치될 수도 있다. |
