| 摘要 |
본 발명은 기판을 처리하는 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치는 기판에 처리액을 공급하여 처리 공정을 수행하는 공정 챔버와 상기 공정 챔버에 처리액을 공급하는 처리액 공급 유닛을 포함하되 상기 공정 챔버는 내부에 처리 공간을 가지는 하우징과 상기 처리 공간 내에 위치하며 기판을 지지하는 지지 유닛과 그리고 상기 처리액 공급 유닛으로부터 상기 처리액을 공급받아 기판에 공급하는 액 공급 노즐을 포함하며 상기 처리액 공급 유닛은 복수의 액 공급원으로부터 액을 공급받아 상기 복수의 액을 혼합하는 혼합 부재와 연결관을 통해 상기 혼합 부재로부터 혼합된 상기 처리액을 공급받아 상기 처리액을 저장하며 공급 라인을 통해 상기 처리액을 상기 액 공급 노즐에 공급하는 버퍼 탱크을 포함하는 기판 처리 장치를 포함한다. |
