| 发明名称 |
ブランクマスク及びこれを用いたフォトマスク |
| 摘要 |
【課題】 遮光膜の金属及び軽元素の組成を調節して遮光性を確保するとともに、エッチング速度が増大し、薄膜化され、面抵抗値が最小化された遮光膜を有するブランクマスク及びフォトマスクを提供する。【解決手段】 本発明のブランクマスクは、透明基板上に少なくとも遮光膜を有し、遮光膜は、透明基板に隣接して形成された第１遮光層及び第１遮光層上に形成された第２遮光層からなり、第１及び第２遮光層は、クロム（Ｃｒ）及びモリブデン（Ｍｏ）を含んでなる。【選択図】 図１ |
| 申请公布号 |
JP2017027006(A) |
申请公布日期 |
2017.02.02 |
| 申请号 |
JP20150195702 |
申请日期 |
2015.10.01 |
| 申请人 |
エスアンドエス テック カンパニー リミテッド |
发明人 |
南 基 守;申 ▲ちょる▼;李 鍾 華;梁 ▲ちょる▼ 圭;崔 ▲みん▼ 箕;金 昌 俊;全 永 眺 |
| 分类号 |
G03F1/58;C23C14/06;G03F1/32;G03F1/80 |
主分类号 |
G03F1/58 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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