REACTIVE SPUTTERING DEVICE

摘要

본 개시 기술의 반응성 스퍼터 장치는, 성막(成) 대상물에 형성해야 할 화합물 막의 형성영역으로 향하여 스퍼터입자를 방출하는 캐소드 장치를 구비한다. 상기 형성영역과 마주하는 공간이 대향영역이고, 상기 캐소드 장치는 부식영역을 상기 대향영역에 주사(走査)하는 주사부와, 상기 부식영역이 형성되고 주사방향에 대하여 길이가 상기 대향영역보다도 짧은 타겟을 구비한다. 상기 주사부는, 상기 주사방향으로 상기 형성영역의 두 단부의 안쪽, 상기 스퍼터입자가 먼저 도달하는 제1 단부와 상기 주사방향으로 상기 형성영역의 상기 제1 단부에 가까운 상기 타겟의 제1 단부와의 거리가, 상기 주사방향으로 150mm이상인 개시위치에서 상기 대향영역에 향하여 상기 부식영역을 주사한다.