高機能溶液を用いたフォトレジスト剥離

摘要

本発明は、多相系に基づく新規な清浄化剤、フォトレジストを表面から除去するための該清浄化剤の使用、およびフォトレジスト被膜を表面から除去する方法について説明する。本発明に係る多相系は、特に、被膜、フォトレジスト被膜、高分子層、汚物層、絶縁層、および金属層を表面から除去するために使用される。【選択図】なし