表面上の残渣を除去するための洗浄用製剤

摘要

【課題】洗浄用組成物、並びに半導体基板を洗浄するための前記組成物の使用法の提供。【解決手段】１）少なくとも１つの酸化還元剤、２）ポリアミノポリカルボン酸である少なくとも１つの第１のキレート剤、３）前記第１のキレート剤と異なり、少なくとも２つの窒素含有基を含む少なくとも１つの第２のキレート剤、４）置換または非置換ベンゾトリアゾールである少なくとも１つの金属腐食抑制剤、５）水溶性アルコール、水溶性ケトン、水溶性エステル、および水溶性エーテルからなる群より選択される少なくとも１つの有機溶媒、６）水、および７）所望により、金属イオンを含まない塩基である少なくとも１つのｐＨ調整剤を含む洗浄用組成物、並びに半導体基板を洗浄するための前記組成物の使用法。【選択図】なし。