| 摘要 |
【課題】金属からなる基材の所定部分に充分な厚さのセラミックコート層が形成された構造体の製造方法の提供。【解決手段】被覆予定領域を決定する被覆予定領域決定工程と、被覆予定領域の外側に、被覆予定領域の境界と接するように帯状の外方粗化面４０を形成する外方粗化面形成工程と、被覆予定領域に、内方粗化面４４を形成する内方粗化面形成工程と、軟化点が３００〜９００℃である低融点ガラス粉末を含むセラミック原料を被覆予定領域及び外方粗化面４０に塗布するセラミック原料塗布工程と、上記セラミック原料を上記基材の表面に上記軟化点よりも高い温度で焼き付けセラミックコート層５０を形成するセラミックコート層形成工程とを含み、上記外方粗化面形成工程では、上記外方粗化面の表面粗さを所定の値となる様にする構造体の製造方法。【選択図】図６ |
