发明名称 Verfahren zur Herstellung eines Splitgate-Leistungsbauelements
摘要 Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf die Technik zur Herstellung von Halbleiter-Leistungsbauelementen, insbesondere auf ein Verfahren zur Herstellung eines Splitgate-Leistungsbauelements. Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Herstellung eines Splitgate-Leistungsbauelements wird während der Erzeugung einer Steuergate-Kerbe durch Ätzen durch einen zusätzlichen quergerichteten Ätzvorgang eine unterhalb eines ersten Isolierfilms befindliche querlaufende Einbuchtung der Steuergate-Kerbe erzeugt wird. Dadurch kann erreicht werden, dass nach dem Abscheiden eines ersten elektrisch leitfähigen Films dieser unmittelbar mittels des ersten Isolierfilms als Maske so geätzt wird, dass ein Steuergate entsteht. Mit der Erfindung wird ein vereinfachter, zuverlässiger, leicht steuerbarer Prozessablauf ermöglicht, was zur erheblichen Erhöhung der Produktausbeute von Splitgate-Leistungsbauelementen beiträgt. Die Erfindung eignet sich insbesondere zur Herstellung von 25 V–200 V Halbleiter-Leistungsbauelementen.
申请公布号 DE112016000050(T5) 申请公布日期 2017.02.02
申请号 DE20161100050T 申请日期 2016.03.15
申请人 Su Zhou Oriental Semiconductor Co., Ltd. 发明人 Mao, Zhendong;Liu, Lei;Liu, Wei;Lin, Minzhi
分类号 H01L21/336;H01L21/28;H01L29/423;H01L29/78 主分类号 H01L21/336
代理机构 代理人
主权项
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