荷電粒子ビーム描画装置、その制御方法および補正描画データ作成方法

摘要

【課題】マルチビームのブランキング密度が変化しても、被描画基板上において、適正な位置に、適正なドーズ量のマルチビームを照射する荷電粒子ビーム描画装置を提供する。【解決手段】荷電粒子ビーム描画装置の制御装置は、描画データからマルチビームのパターン面積密度マップを求め、予め求められたパターン面積密度マップと、描画パターンの位置ずれとの関係に基づいて、各頂点の位置ずれ量を求め、次に描画データの各頂点をその移動量で移動して補正描画データを作成する。制御装置は補正描画データを用いて、荷電粒子ビーム描画装置を制御する。【選択図】図４