发明名称 光変調器の製造方法、光変調器および画像表示装置
摘要 【課題】光導波路に対する電極の位置精度が高い光変調器を効率よく製造可能な光変調器の製造方法、光導波路に対する電極の位置精度が高い光変調器、および、前記光変調器を備える画像表示装置を提供すること。【解決手段】変調器30R、30G、30Bの製造方法は、基板301の上面に絶縁層を形成する工程S1と、絶縁層をパターニングして第1の層81を得る工程S2と、第1の層81をマスクとして、基板301にプロトン交換処理を施し、光導波路302を形成する工程S3と、第1の層81の上面に第2の層82を形成する工程S4と、第2の層82の上面に第3の層83を形成する工程S5と、第3の層83の上面に導電層3030を形成する工程S6と、第1の層81に含まれるアライメントパターン811を基準にして導電層3030をパターニングし、電極303を得る工程S7と、を有する。【選択図】図8
申请公布号 JP2017026972(A) 申请公布日期 2017.02.02
申请号 JP20150148370 申请日期 2015.07.28
申请人 セイコーエプソン株式会社 发明人 井出 勉
分类号 G02F1/035;G02B26/10 主分类号 G02F1/035
代理机构 代理人
主权项
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