发明名称 半導体装置および半導体装置形成方法
摘要 【課題】向上した信頼性および/または耐久性を有する半導体装置を提供する。【解決手段】半導体装置100は、垂直方向電気素子配置の複数の補償領域110と、垂直方向電気素子配置の複数のドリフト領域120と、空乏化不可能ドーピング領域130とを含む。複数の補償領域のいくつかは、半導体装置の半導体基板中に配置される。さらに、垂直方向電気素子配置の複数のドリフト領域は、半導体装置のセル領域102内の半導体基板中に配置される。複数のドリフト領域と複数の補償領域は横方向に交互に配置される。空乏化不可能ドーピング領域は、セル領域の端から半導体基板の端104に向かって横方向に延びる。空乏化不可能ドーピング領域は遮断動作中に半導体装置へ印可される電圧により空乏化されないドーピングを有する。【選択図】図1
申请公布号 JP2017028263(A) 申请公布日期 2017.02.02
申请号 JP20160128388 申请日期 2016.06.29
申请人 インフィネオン テクノロジーズ オーストリア アクチエンゲゼルシャフト 发明人 ヒルラー, フランツ
分类号 H01L29/06;H01L21/336;H01L29/739;H01L29/78 主分类号 H01L29/06
代理机构 代理人
主权项
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