化合物、リソグラフィー用下層膜形成材料、リソグラフィー用下層膜及びパターン形成方法

摘要

本発明のリソグラフィー用下層膜形成材料は、下記一般式（１）で表される構造を有する化合物を含有する。【化１】（式（１）中、Ｘは、各々独立して、酸素原子又は硫黄原子であり、Ｒ１は、単結合又は炭素数１〜３０の２ｎ価の炭化水素基であり、該炭化水素基は、環式炭化水素基、二重結合、ヘテロ原子又は炭素数６〜３０の芳香族基を有していてもよく、Ｒ２は、炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数２〜１０のアルケニル基又は水酸基であり、ｍは、０〜３の整数であり、ｎは、１〜４の整数であり、ｐは、０又は１であり、ｑは、１〜１００の整数である。）