发明名称 PARTICLE ANALYSIS SYSTEM FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR AND METHOD USING THE SAME
摘要 예시적인 실시예들에 따른 입자 분석 방법은 취출 유닛을 이용하여 분석물질 저장소로부터 시료 샘플을 실시간으로 취출한다. 취출 유닛으로부터 시료 샘플을 제공받고, 인터페이스 유닛을 이용하여 시료 샘플을 정량화한다. 분석 유닛을 이용하여 화학 성분 측정 모드 또는 입자의 크기 및 분포 측정 모드를 선택한다. 화학 성분 측정 모드가 선택된 경우, 시료 샘플에 포함된 분석물질에 대한 성분 분석을 수행한다. 입자의 크기 및 분포 측정 모드가 선택된 경우, 시료 샘플에 포함된 상기 분석물질에 대한 입자의 크기 및 분포 분석을 수행한다. 입자 분석 방법에 의하면, 동시에 화학 성분 분석 및 입자 크기 분석을 수행할 수 있기 때문에 제조 공정의 생산성이 높아지며 온라인으로 분석을 수행할 수 있는 장점이 있다.
申请公布号 KR20170011805(A) 申请公布日期 2017.02.02
申请号 KR20150105099 申请日期 2015.07.24
申请人 엔비스아나(주) 发明人 전필권;성용익
分类号 H01L21/66 主分类号 H01L21/66
代理机构 代理人
主权项
地址
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