| 摘要 |
Mikrooptisches Beugungsgitter für elektromagnetische Strahlung, bei dem an einer Oberfläche eines Substrates (1) eine Oberflächenstruktur, die aus äquidistant angeordneten, parallel zueinander ausgerichteten linienförmigen Strukturelementen (2) gebildet ist, ausgebildet ist, wobei die Strukturelemente (2) dreieckige, rechteckige, trapezförmige oder zumindest teilweise ellipsenförmige Querschnittsformen mit entsprechenden Kantenbereichen aufweisen, und die gesamte Oberfläche des Substrates (1) und der Strukturelemente (2) mit mindestens einer weiteren Schicht (3, 4, 5) beschichtet ist, wobei die Schicht(en) (3, 4, 5) unabhängig von der linienförmigen Oberflächenkontur eine gleichmäßige sinusförmig in Wellenform konturierte Oberfläche mit alternierend angeordneten Wellenbergen und Wellentälern bildet/bilden. |
