发明名称 グラフェン製造方法、グラフェン製造装置及びグラフェン製造システム
摘要 【課題】密度の均一な高品質のグラフェンを製造することができるグラフェン製造方法を提供する。【解決手段】炭素含有触媒金属膜26へ炭素を含有させながら、当該炭素含有触媒金属膜26をウエハWの表面に形成し、形成された炭素含有触媒金属膜26を加熱し、加熱された炭素含有触媒金属膜26を冷却して炭素含有触媒金属膜26からグラフェン27を析出させる。【選択図】図6
申请公布号 JP2017024926(A) 申请公布日期 2017.02.02
申请号 JP20150142460 申请日期 2015.07.16
申请人 東京エレクトロン株式会社 发明人 西出 大亮;松本 貴士;井福 亮太
分类号 C01B32/15;C01B32/18;C01B32/182 主分类号 C01B32/15
代理机构 代理人
主权项
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