发明名称 III族窒化物発光素子の製造方法
摘要 【課題】動作電圧をより低下させ、かつ副発光ピーク強度を抑え、副発光ピーク強度を抑制したIII族窒化物発光素子を製造できる方法を提供する。【解決手段】基板上に、組成式AlX1Ga1−X1N(0<X1≦1.0)で表されるn型層、組成式AlX2Ga1−X2N(0<X2≦1.0)で表される活性層、組成式AlX3Ga1−X3N(0<X3≦1.0)で表されるp型層をこの順で有するIII族窒化物発光素子を有機金属気相成長法で製造する方法であって、該n型層の成長温度をT1、該活性層の成長温度をT2、および該p型層の成長温度T3としたとき、下記式(1)、(2)を満足する成長温度で該n型層、該活性層、および該p型層を成長するIII族窒化物発光素子の製造方法である。T1<T2≦T3(1)。T3≧T1+20(2)。【選択図】図1
申请公布号 JP2017028076(A) 申请公布日期 2017.02.02
申请号 JP20150144565 申请日期 2015.07.22
申请人 株式会社トクヤマ 发明人 橋本 健宏;小幡 俊之;木下 亨
分类号 H01L33/32;C23C16/18;C23C16/34;C30B25/16;C30B29/38;H01L21/205 主分类号 H01L33/32
代理机构 代理人
主权项
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