发明名称 易制备的可用做微电子材料的吡唑基Ge(Ⅱ)化合物
摘要 本发明涉及一种易制备的可用做微电子材料的吡唑基Ge(Ⅱ)化合物,采用以下方法制备:(1)将吡唑或其衍生物溶解在反应溶剂中,在‑78~0℃搅拌条件下加入烷基锂溶液中,吡唑或其衍生物与烷基锂的摩尔比为1:1~1.2;恢复到室温后继续搅拌反应,得到反应混合物;(2)将步骤(1)得到的反应混合物过滤,得到锂盐固体,将锂盐固体与甲苯混合,得到锂盐的甲苯溶液;(3)在‑78~0℃按照锂盐与二氯化锗摩尔比2:1~1.1,将锂盐的甲苯溶液滴加到二氯化锗的甲苯溶液中,升温至室温;(4)将步骤(3)得到的反应混合物进行过滤,所得滤渣进行低温结晶,得到所述的吡唑基Ge(Ⅱ)化合物。本发明合成方法简便、合成条件温和,具有良好的成膜性能。
申请公布号 CN104086589B 申请公布日期 2017.02.01
申请号 CN201410343236.5 申请日期 2014.07.17
申请人 江南大学 发明人 丁玉强;王权;张秀梅;王大伟;苗红艳
分类号 C07F7/30(2006.01)I;C23C16/18(2006.01)I 主分类号 C07F7/30(2006.01)I
代理机构 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 代理人 曹祖良;刘海
主权项 一种具有通式(Ⅰ)的吡唑基Ge(Ⅱ)化合物:<img file="FDA0001122149150000011.GIF" wi="742" he="271" />其中,R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>、R<sup>3</sup>选自氢原子、C<sub>1</sub>~C<sub>6</sub>烷基。
地址 214122 江苏省无锡市蠡湖大道1800号