发明名称 Circulation purification device for process chamber
摘要 본 발명은 프로세스 챔버의 순환 정제장치에 관한 것으로, 다수의 프로세스 챔버에서 각각 사용된 가스를 선택적으로 순환배기하는 멀티순환배기부와, 상기 멀티순환배기부를 통해 배기된 가스를 정제하는 정제부와, 상기 정제부에서 정제된 가스를 상기 다수의 프로세스 챔버 각각에 선택적으로 공급하는 멀티순환공급부를 포함한다. 본 발명은 한 쌍의 정제 컬럼을 사용하여 다수의 프로세스 챔버에서 사용된 가스를 순환 공급받아 정제 처리 후 각 프로세스 챔버로 재공급할 수 있도록 구성되어, 장치의 크기를 줄임과 아울러 설치 비용을 줄일 수 있는 효과가 있다.
申请公布号 KR101700828(B1) 申请公布日期 2017.02.01
申请号 KR20140151294 申请日期 2014.11.03
申请人 주식회사 케이피씨 发明人 이혁수;한용기;이남철
分类号 H01L21/02 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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